氟化铈CeF₃。氟化铈又称三氟化铈、氟化亚铈是一种重要的无机化合物。具有高折射率、高透过率等优异指标在紫外波段和红外波段域具有优良的通过率同时还具有低色散的特点使其在光学镜片、光导纤维等光学器件领域应用广泛。CeF₃氟化铈三氟化铈 的核心特性 光学 / 磁光 / 闪烁应用。一、基本特性化学式CeF₃三氟化铈。晶系六方 / 三方单轴晶体负。外观无色透明单晶 / 白色粉末。密度6.16 g/cm³很高。熔点1640℃热稳定性极好。硬度莫氏 4–4.5比冰洲石3硬很多无解理不易裂。潮解性几乎不潮解化学稳定优于许多氟化物。二、磁光特性法拉第旋转材料UV–VIS–IR 宽带磁光Verdet 常数典型值355 nm~674 rad/(T·m)。633 nm~148 rad/(T·m)。1550 nm~18 rad/(T·m)。对比 TGG传统法拉第材料TGG400 nm 不透光UV 不能用。CeF₃300 nm 起可用唯一宽带 UV 磁光晶体。应用UV 法拉第隔离器、磁光调制器、光开关、2 μm 高功率隔离器。三、闪烁特性发射峰286 / 300 / 340 nm紫外。衰减时间5–9 ns超快。光产额2000–4000 ph/MeV。高均匀窗口、基板、磁光元件、红外棱镜材料。应用PET、工业 CT、高能物理探测器如 CERNUV–VIS–IR 高均匀窗口 / 保护窗UV–VIS–IR 高均匀窗口 / 保护窗红外2–5 μm普通棱镜非偏振分束UV 法拉第隔离器 / 磁光器件高功率激光系统基板 / 底座需要低应力、高稳定、耐温的光学基板。四、CeF₃总结UV–中红外高均匀光学窗口、基板、透镜、普通棱镜军工、航天、红外制导。UV 法拉第隔离器、磁光调制器、2 μm 高功率磁光器件替代 TGG 的 UV 空白。高功率激光系统光学元件、底座、保护窗低应力、稳定、不易裂。闪烁晶体PET、工业探伤、高能物理。高均匀、高稳定、UV 透明、无解理、硬、低双折射适合做 UV / 红外窗口、基板、磁光器件。
