作者李志松Pioneer 翟天保Steven 田雨阳版权声明著作权归作者所有商业转载请联系作者获得授权非商业转载请注明出处注本文所讲设备由李志松教授团队研发属于商业产品矩阵内容商业技术合作、产品代理可私聊联系。一、前言在高端制造与科研检测的前沿领域薄膜材料的应用已渗透半导体、光学涂层、液晶显示、生物医学等多个核心行业薄膜厚度的精准把控直接决定产品性能、生产良率与研发效率成为产业升级的关键瓶颈之一。传统测厚方案或存在接触式测量刮伤样品的隐患或受限于单一算法、光源稳定性不足难以适配多层膜、超薄膜、复杂基底等多样化测量需求无法满足现代工业高效、精准、无损的检测标准。为破解行业痛点赋能各领域高质量发展李志松团队推出LM-SR型反射式膜厚测量仪以先进光学干涉技术为核心融合进口优质光源与多元精准算法兼顾测量精度、效率与场景适配性可灵活应对各类薄膜测量需求为科研与生产提供全流程、高可靠的检测解决方案助力企业突破技术瓶颈提升核心竞争力。二、仪器简介LM-SR型反射膜厚测量仪基于光学干涉原理通过检测薄膜上下表面反射光波的干涉现象形成反射光谱图从而迅速且精确地测定薄膜的厚度和光学特性等数据。LM-SR型反射膜厚测量仪广泛应用于各种介质保护膜、有机薄膜、无机薄膜、部分金属膜、涂层等薄膜测量。三、产品特点3.1光源采用高强度氘灯\卤素灯进口光源光谱覆盖深紫外到近红外范围。3.2原理基于薄膜上界面与下界面的反射光干涉原理通过建立光学模型与实测光谱进行全波段拟合从而实现对单层至多层薄膜厚度及光学常数的精确解析。3.3算法配置FFT分析厚膜、反演拟合法分析薄膜的物理参数信息。四、基础参数型号LM-SR系列基本功能反射率、膜厚、n/k等参数光源类型卤素灯/LED光源光谱范围标准380-1000nm工作距离大于10mm膜厚测量范围15nm-70um(可拓展至1nm-200um)测量速度单次不超过1s(常规型号)重复性测量精度*0.02nm测量精度0.2%或2nm取较大值样件台尺寸标配6英寸可定制光斑大小标准1.5mm最大测量层数10层*重复精度指标仅针对100nm SiO2硅片100次重复测量五、软件界面六、定制化功能可定制功能定制说明Mapping功能可定制软件支持光谱范围200到1700nm采集速度最高每秒500次膜厚测量范围范围可扩展到1nm到200um样件台尺寸支持定制光斑大小最小支持显微5um设备集成支持集成软件接口可根据客户需求提供七、设备优势1消除工作距离影响设备对测量面高度不敏感较大的工作距离变化不影响测量结果。工作距离校准距离-6mm6mm厚度1007.99nm1008.01nm1008.03nm以上是针对1000nm二氧化硅硅基底测量的结果。差异小于0.031nm总厚1008nm2消除角度影响设备常规型号对样品角度变化不敏感一定的角度倾斜不影响测量结果。倾斜角度03度5度厚度1007.85nm1008.05nm1007.89nm以上是针对1000nm二氧化硅硅基底测量的结果。差异小于0.2nm总厚1008nm3其他本设备算法可以消除背景反射、表面不均匀、粗糙度较大、复杂基底等情况的影响并得到准确厚度值。4高度可定制化可配合客户定制外型和功能便于集成。八、应用场景LM-SR系列产品可用于测量透明和半透明膜层在设备波段范围内包括液体和空气膜等都可以测量。也可以用来单独测量精确的反射率或分析色坐标。设备包含了单点测量、mapping厚度分布测量、以及工业在线测量等场景广泛应用于半导体、光学涂层、液晶显示、生物医学等领域。常见应用半导体相关光刻胶、SiO2/SiNx等、多晶硅、Al2O3等薄膜测量。第三代半导体SiC及氧化层等表面薄膜测量GaAs及表面薄膜测量。液晶测量ITO等透明导电薄膜、取向层、抗反射涂层(如SiO2、SiNₓ)以及TFT相关功能层的厚度。光学涂层SiO2、ZnO、Al2O3、SnO2、TiO2等等。在线测量PET及涂层、聚苯乙烯、聚酯类等材料。生物医学Parylene等涂层。九、总结LM-SR型反射膜厚测量仪凭借进口优质光源、多元精准算法的核心优势兼具高精度、高效率、高适配性的特点有效消除工作距离与角度带来的测量误差可灵活适配单层至多层、超薄膜至厚膜的多样化测量需求且支持全方位定制化服务完美契合半导体、光学涂层、液晶显示、生物医学等多领域的科研与生产检测需求。作为一款集精准、高效、便捷、可定制于一体的专业测厚设备它不仅能为用户提供稳定可靠的检测数据支撑降低检测成本、提升生产与研发效率更能助力各行业突破薄膜检测技术瓶颈赋能产业高质量升级。选择LM-SR型反射膜厚测量仪便是选择一份专业保障与核心竞争力携手解锁薄膜检测的高效新模式。
